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光學(xué)鍍膜系統(tǒng)的分析概述

更新時(shí)間:2016-11-14      瀏覽次數(shù):2165
   光學(xué)鍍膜系統(tǒng)是改變光學(xué)零件表面特征而鍍?cè)诠鈱W(xué)零件表面上的一層或多層膜??梢允墙饘倌?、介質(zhì)膜或這兩類(lèi)膜的組合。光學(xué)薄膜是各種先進(jìn)光電技術(shù)中*的一部分,它不僅能改善系統(tǒng)性能,而且是滿(mǎn)足設(shè)計(jì)目標(biāo)的必要手段,光學(xué)薄膜的應(yīng)用領(lǐng)域設(shè)及光學(xué)系統(tǒng)的各個(gè)方面,包括激光系統(tǒng),光通信,光顯示,光儲(chǔ)存等,主要的光學(xué)薄膜器件包括反射膜、減反射膜、偏振膜、干涉濾光片和分光鏡等等。下面就由小編具體為大家介紹分析光學(xué)鍍膜系統(tǒng)的基礎(chǔ)知識(shí),以作為參考希望能夠幫助到大家。
  光學(xué)鍍膜系統(tǒng)的定義是:
  涉及光在傳播路徑過(guò)程中,附著在光學(xué)器件表面的厚度薄而均勻的介質(zhì)膜層,通過(guò)分層介質(zhì)膜層時(shí)的反射、透(折)射和偏振等特性,以達(dá)到我們想要的在某一或是多個(gè)波段范圍內(nèi)的光的全部透過(guò)或光的全部反射或偏振分離等各特殊形態(tài)的光。
  光學(xué)薄膜在我們的生活中無(wú)處不在,從精密及光學(xué)設(shè)備、顯示器設(shè)備到日常生活中的光學(xué)薄膜應(yīng)用;比方說(shuō),平時(shí)戴的眼鏡、數(shù)碼相機(jī)、各式家電用品,或者是鈔票上的防偽技術(shù),皆能被稱(chēng)之為光學(xué)薄膜技術(shù)應(yīng)用之延伸。倘若沒(méi)有光學(xué)薄膜技術(shù)作為發(fā)展基礎(chǔ),近代光電、通訊或是鐳射技術(shù)將無(wú)法有所進(jìn)展,這也顯示出光學(xué)薄膜技術(shù)研究發(fā)展的重要性。
  光學(xué)鍍膜系統(tǒng)指在光學(xué)元件或獨(dú)立基板上,制鍍上或涂布一層或多層介電質(zhì)膜或金屬膜或這兩類(lèi)膜的組合,以改變光波之傳遞特性,包括光的透射、反射、吸收、散射、偏振及相位改變。故經(jīng)由適當(dāng)設(shè)計(jì)可以調(diào)變不同波段元件表面之穿透率及反射率,亦可以使不同偏振平面的光具有不同的特性。
  光學(xué)鍍膜系統(tǒng)薄膜干涉原理:
  光既然是一種電磁波,所以在傳播過(guò)程中,應(yīng)該變現(xiàn)出所具有的特征-----干涉、衍射、偏振等現(xiàn)象。
  薄膜可以是透明固體、液體或由兩塊玻璃所夾的氣體薄層。入射光經(jīng)薄膜上表面反射后得*束光,折射光經(jīng)薄膜下表面反射,又經(jīng)上表面折射后得第二束光,這兩束光在薄膜的同側(cè),由同一入射振動(dòng)分出,是相干光,屬分振幅干涉。若光源為擴(kuò)展光源,則只能在兩相干光束的特定重疊區(qū)才能觀察到干涉,故屬定域干涉。對(duì)兩表面互相平行的平面薄膜,干涉條紋定域在無(wú)窮遠(yuǎn),通常借助于會(huì)聚透鏡在其像方焦面內(nèi)觀察;對(duì)楔形薄膜,干涉條紋定域在薄膜附近。
  實(shí)驗(yàn)和理論都證明,只有兩列光波具有一定關(guān)系時(shí),才能產(chǎn)生干涉條紋,這些關(guān)系稱(chēng)為相干條件。薄膜的想干條件包括三點(diǎn): 兩束光波的頻率相同;束光波的震動(dòng)方向相同,兩束光波的相位差保持恒定。
  式中n為薄膜的折射率、t為入射點(diǎn)的薄膜厚度、α為薄膜內(nèi)的折射角、λ/2是由于兩束相干光在性質(zhì)不同的兩個(gè)界面上反射而引起的附加光程差。薄膜干涉原理廣泛應(yīng)用于光學(xué)表面的檢驗(yàn)、微小的角度或線度的精密測(cè)量、減反射膜和干涉濾光片的制備等。
  光是由光源中原子或分子的運(yùn)動(dòng)狀態(tài)發(fā)生變化輻射出來(lái)的,每個(gè)原子或分子每一次發(fā)出的光波,只有短短的一列,持續(xù)時(shí)間約為10億秒對(duì)于兩個(gè)獨(dú)立的光源來(lái)說(shuō),產(chǎn)生干涉的三個(gè)條件,特別是相位相同或相位差恒定不變這個(gè)條件,很不容易滿(mǎn)足,所以?xún)蓚€(gè)獨(dú)立的一般光源是不能構(gòu)成相干光源的。不僅如此,即使是同一個(gè)光源上不同部分發(fā)出的光,由于它們是不同的原子或分子所發(fā)出的,一般也不會(huì)干涉。
  光學(xué)鍍膜系統(tǒng)特點(diǎn)分類(lèi):
  主要的光學(xué)薄膜器件包括反射膜、減反射膜、偏振膜、干涉濾光片和分光鏡等等,它們?cè)趪?guó)民經(jīng)濟(jì)和國(guó)防建設(shè)中得到廣泛的應(yīng)用,獲得了科學(xué)技術(shù)工作者的日益重視。例如采用減反射膜后可使復(fù)雜的光學(xué)鏡頭的光通量損失成十倍的減小;采用高反射膜比的反射鏡可使激光器的輸出功率成倍提高,利用光學(xué)薄膜可提高硅電池的效率和穩(wěn)定性。
  光學(xué)鍍膜系統(tǒng)的特點(diǎn)是:表面光滑,膜層之間的界面呈幾何分割;膜層的折射率在界面上可以發(fā)生躍變,但在膜層內(nèi)是連續(xù)的;可以是透明介質(zhì),也可以是吸收介質(zhì);可以是法向均勻的,也可以是法向不均勻的。實(shí)際應(yīng)用的薄膜要比理想薄膜復(fù)雜得多。這是因?yàn)椋褐苽鋾r(shí),薄膜的光學(xué)性質(zhì)和物理性質(zhì)偏離大塊材料,起表面和界面是粗糙的,從而導(dǎo)致光束的漫反射;膜層之間的相互滲透形成擴(kuò)散界面;由于膜層的生長(zhǎng)、結(jié)構(gòu)、應(yīng)力等原因,形成了薄膜的各種向異性,膜層具有復(fù)雜的時(shí)間效應(yīng)。
  反射膜一般可分為兩類(lèi),一類(lèi)是金屬反射膜,一類(lèi)是全電介質(zhì)反射膜。此外,還有將兩者結(jié)合的金屬電介質(zhì)反射膜,功能是增加光學(xué)表面的反射率。
  光學(xué)鍍膜系統(tǒng)的金屬反射膜的優(yōu)點(diǎn)是制備工藝簡(jiǎn)單,工作的波長(zhǎng)范圍寬;缺點(diǎn)是光損大,反射率不可能很高。為了使金屬反射膜的反射率進(jìn)一步提高,可以在膜的外側(cè)加鍍幾層一定厚度的電介質(zhì)層,組成金屬電介質(zhì)反射膜。需要指出的是,金屬電介質(zhì)射膜增加了某一波長(zhǎng)的反射率,卻破壞了金屬膜中性反射的特點(diǎn)。
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