NMC-4000(M)MOCVD設(shè)備概述：NANO-MASTER針對InGaN及AlGaN沉積工藝所研發(fā)的臺(tái)式等離子輔助金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(PA-MOCVD),該系統(tǒng)具有5個(gè)鼓泡裝置(各帶獨(dú)立的冷卻槽)、加熱的氣體管路、950度樣品臺(tái)三個(gè)氣體環(huán)、淋浴式氣體分布的RF射頻等離子源以及工藝終端的N2沖洗、250l/sec渦輪分子泵及無油真空泵(5x10-7Torr極限真空)、PC全自動(dòng)控制，*的安全互鎖。
目前，這項(xiàng)技術(shù)延伸到5個(gè)4"晶圓的立柜式獨(dú)立批處理系統(tǒng)，該系統(tǒng)可以集成到集群配置中以滿足高產(chǎn)量的要求。
NMC-4000(M)MOCVD設(shè)備特點(diǎn)：
臺(tái)式系統(tǒng)
10英寸不銹鋼腔體
帶碰頭氣體分配器的射頻等離子源
自動(dòng)調(diào)節(jié)
4英寸基片夾、可加熱到900°C
5個(gè)帶獨(dú)立冷卻/加熱的起泡器
加熱氣體管道
附加流量控制器
250升/秒渦輪分子泵組
5×10-7托基準(zhǔn)壓
電腦程序全自動(dòng)驅(qū)動(dòng)
儀器模擬用戶界面
緊急按鈕保護(hù)和安全互鎖
MOCVD設(shè)備選配：
立式獨(dú)立系統(tǒng)
感應(yīng)耦合等離子或微波等離子源
14英寸電解拋光立方體腔體
8英寸或12英寸基片夾
6英寸可加熱至700°C旋轉(zhuǎn)基板臺(tái)（4英寸可到950°C）
附加的起泡器和MFC
晶圓自動(dòng)裝載/卸載
可兼容集群配置
應(yīng)用：
3到5族半導(dǎo)體層
藍(lán)色發(fā)光二極管
激光二極管
紫外-可見光譜光電中的氮化銦納米棒
3D或2D材料中的二硫化鉬、氮化硼、石墨烯
產(chǎn)品分類
更新時(shí)間：2021-01-26 
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