等離子輔助MOCVD技術(shù)

NMC-3000等離子輔助MOCVD概述：NANO-MASTER針對(duì)InGaN及AlGaN沉積工藝所研發(fā)的臺(tái)式等離子輔助金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(PA-MOCVD),該系統(tǒng)具有5個(gè)鼓泡裝置(各帶獨(dú)立的冷卻槽)、加熱的氣體管路、950度樣品臺(tái)三個(gè)氣體環(huán)、淋浴式氣體分布的RF射頻等離子源以及工藝終端的N2沖洗、250l/sec渦輪分子泵及無(wú)油真空泵(5 x 10^-7Torr極限真空)、PC全自動(dòng)控制，*的安全互鎖。

目前，這項(xiàng)技術(shù)延伸到5個(gè)4"晶圓的立柜式獨(dú)立批處理系統(tǒng)，該系統(tǒng)可以集成到集群配置中以滿足高產(chǎn)量的要求。

NMC-3000等離子輔助MOCVD應(yīng)用：Green LED’s (GaN, InGaN, AlGaN, ...)

NMC-3000等離子輔助MOCVD系統(tǒng)特點(diǎn)：

• 臺(tái)式系統(tǒng)
• 5個(gè)帶獨(dú)立冷卻槽的起泡器
• 加熱的氣體管路
• 950 °C樣品臺(tái)，2”晶圓片
• 3個(gè)氣體環(huán)
• RF等離子源，帶淋浴頭氣體分布
• 工藝完成后N2自動(dòng)沖洗
• 極限真空5x10-7Torr
• 260 l/s的渦輪分子泵串接無(wú)油干泵
• 通過(guò)LabView軟件實(shí)現(xiàn)PC計(jì)算機(jī)全自動(dòng)控制
• 菜單驅(qū)動(dòng)，4級(jí)密碼訪問(wèn)控制
• 完整的安全聯(lián)鎖