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光學(xué)鍍膜系統(tǒng)無論是無機(jī)材料還是有機(jī)材料制成的眼鏡片，在日常的使用中，由于與灰塵或砂礫（氧化硅）的摩擦都會(huì)造成鏡片磨損，在鏡片表面產(chǎn)生劃痕。與玻璃片相比，有機(jī)材料制成的硬性度比較低，更易產(chǎn)生劃痕。通過顯微鏡，我們可以觀察到鏡片表面的劃痕主要分為二種，一是由于砂礫產(chǎn)生的劃痕，淺而細(xì)小，戴鏡者不容易察覺；另一種是由較大砂礫產(chǎn)生的劃痕，深且周邊粗糙，處于中心區(qū)域則會(huì)影響視力。光學(xué)鍍膜系統(tǒng)特點(diǎn)分類：主要的光學(xué)薄膜器件包括反射膜、減反射膜、偏振膜、干涉濾光片和分光鏡等等，它們?cè)趪?guó)民經(jīng)濟(jì)和...

熱真空環(huán)境模擬試驗(yàn)設(shè)備用于極真空及可控均勻的加熱和冷卻循環(huán)套件下測(cè)試器件或樣品。該系統(tǒng)具有計(jì)算機(jī)控制、安全連鎖，以及多級(jí)密碼授權(quán)訪問保護(hù)的功能。它可以用于超過24小時(shí)的圈子全自動(dòng)熱、冷循環(huán)情況下測(cè)試器件/樣品，溫度條件通過程序定義。該系統(tǒng)通常的應(yīng)用之一是太空模擬。系統(tǒng)腔體的大致尺寸為：直徑24"，長(zhǎng)度43"。帶有一個(gè)16"x32"的滑動(dòng)加熱平，可以冷卻到零下100攝氏度。熱真空平臺(tái)也可以加熱到150攝氏度，具有高度的均勻度。在去邊3cm后整個(gè)平臺(tái)的溫度均勻度可達(dá)/-1攝氏度。...

進(jìn)口光學(xué)鍍膜機(jī)工作原理是在高真空狀態(tài)下、利用電子束對(duì)金屬或非金屬材料加熱到適當(dāng)?shù)臏囟?，材料受熱后蒸發(fā)成蒸汽分子。它的平均自由程比蒸發(fā)源至被蒸發(fā)基片距離大，蒸發(fā)出來的蒸汽分子向四處直射，碰到基片就沉積在基片表面形成膜層。進(jìn)口光學(xué)鍍膜機(jī)產(chǎn)品優(yōu)點(diǎn)及特點(diǎn)：1.配置電子束及電阻蒸發(fā)系統(tǒng)；2.電子槍在整個(gè)蒸發(fā)過程中膜料表面平整，蒸發(fā)分布均勻；3.配置石英晶體膜厚控制儀可實(shí)現(xiàn)成膜速度和鍍膜過程的自動(dòng)控制；4.配置大功率離子源，保證膜層質(zhì)量；5.總體結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)合理，操作方便。進(jìn)口光學(xué)鍍膜機(jī)的清...

掩模板清洗機(jī)產(chǎn)生等離子體的裝置是在密封容器中設(shè)置兩個(gè)電極形成電場(chǎng)，用真空泵實(shí)現(xiàn)一定的真空度，隨著氣體愈來愈稀薄，分子間距及分子或離子的自由運(yùn)動(dòng)距離也愈來愈長(zhǎng)，受電場(chǎng)作用，微波等離子清洗機(jī)發(fā)生碰撞而形成等離子體，這些離子的活性很高，其能量足以破壞幾乎所有的化學(xué)鍵，在任何暴露的表面引起化學(xué)反應(yīng)，不同氣體的等離子體具有不同的化學(xué)性能，如氧氣的等離子體具有很高的氧化性，能氧化光刻膠反應(yīng)生成氣體，從而達(dá)到清洗的效果；腐蝕性氣體的等離子體具有很好的各向異性，這樣就能滿足刻蝕的需要。微波等...

熱真空試驗(yàn)箱是在地面上模擬太空環(huán)境的環(huán)境模擬試驗(yàn)設(shè)備。近幾年來,熱真空試驗(yàn)設(shè)備在航天航空業(yè)產(chǎn)品的研制和定型中發(fā)揮了重要作用。熱真空試驗(yàn)箱由于結(jié)構(gòu)復(fù)雜,在運(yùn)行中有時(shí)會(huì)出現(xiàn)一些異?，F(xiàn)象,如果不能及時(shí)排除,將延長(zhǎng)試驗(yàn)周期,影響產(chǎn)品的研制工作。為此,我們對(duì)試驗(yàn)箱的基本工作原理作一些簡(jiǎn)要闡述,并介紹如何對(duì)熱真空試驗(yàn)箱的一般故障進(jìn)行分析判斷和排除。1、斷開制冷控制,制冷閥關(guān)閉,檢查真空計(jì)通訊接口有無松動(dòng),分子泵轉(zhuǎn)速有無發(fā)生變化,經(jīng)檢查都正常,說明真空機(jī)組的問題可以排除。2、由于低溫降溫階...

空間環(huán)境試驗(yàn)是航天器研制工作中的重要程序，由于衛(wèi)星是由數(shù)萬個(gè)零部件組成的復(fù)雜產(chǎn)品，發(fā)射后出現(xiàn)故障，在軌道上不能直接維修，很難查明原因，衛(wèi)星的研制，發(fā)射耗資巨大，一旦發(fā)射失敗，不僅在經(jīng)濟(jì)上造成巨大損失，在政治和軍事上也將帶來重大影響，過去的實(shí)踐經(jīng)驗(yàn)證明，衛(wèi)星故障的70%是由于衛(wèi)星所經(jīng)歷的環(huán)境所造成。因此，在地面上必須做充分的環(huán)境試驗(yàn)后才能發(fā)射。隨著航天技術(shù)的發(fā)展，應(yīng)用衛(wèi)星的新特點(diǎn)是長(zhǎng)壽命、多功能，對(duì)衛(wèi)星環(huán)境試驗(yàn)提出更高、更嚴(yán)格的要求?？臻g環(huán)境模擬試驗(yàn)設(shè)備的用途：用于軍工和航天產(chǎn)...

全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)帶有水冷或者加熱(可加熱到700度)功能，可達(dá)到6"旋轉(zhuǎn)平臺(tái)，支持到4個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵，極限真空可達(dá)10-7Torr，15分鐘內(nèi)可以達(dá)到10-6Torr的真空。通過調(diào)整磁控管與基片之間的距離，可以獲得想要的均勻度和沉積速度。全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)的產(chǎn)品特點(diǎn)：不銹鋼腔體260l/s或350l/s的渦輪分子泵，串接機(jī)械泵或干泵13.56MHz，300-600WRF射頻電源以及1KWDC直流電源晶振夾具具有的帶觀察視窗的腔門易于上下載片基于LabV...

微波等離子清洗機(jī)也叫等離子清潔機(jī)，或者等離子表面處理儀，是一種全新的高科技技術(shù)，利用等離子體來達(dá)到常規(guī)清洗方法無法達(dá)到的效果。等離子體是物質(zhì)的一種狀態(tài)，也叫做物質(zhì)的第四態(tài)，并不屬于常見的固液氣三態(tài)。對(duì)氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。等離子體的“活性”組分包括：離子、電子、原子、活性基團(tuán)、激發(fā)態(tài)的核素(亞穩(wěn)態(tài))、光子等。等離子清潔機(jī)就是通過利用這些活性組分的性質(zhì)來處理樣品表面，從而實(shí)現(xiàn)清潔、涂覆等目的。微波等離子清洗機(jī)的優(yōu)勢(shì)：一、清洗對(duì)象經(jīng)等離子清洗之后是干燥的，不...